1、占地小、稳定性高、运营成本低
2、满足8寸及以下晶圆需求，可涂覆3~20000CP光刻胶
3、适用于科研项目，实验室:小批量生产
4、控制精度高,Ether CAT 通讯，高精度摆臂及传输机构，实时控制解决方案
应用范围 Compound semiconductorMOSFET/lGBT Scientific ResearchRF-IC MEMS LED OPTICS 衬底材料 Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTa03、Li3P04 应用领域 Compound semiconductorMOSFET/IGBT Scientific ResearchRF-IC MEMS LED OPTICS 匀胶胶厚均匀性（1-200CP） 片内≤±1%，片间≤±1% 匀胶胶厚均匀性（200-1500CP） 片内≤±2%，片间≤±2% 匀胶胶厚均匀性（1500-7000CP） 片内≤±3%，片间≤±3% 显影线条均匀性（≥1um） 片内≤±1%，片间≤±1% 
