1、占地小、稳定性高、操作与维护方便
2、易于操作，界面友好
3、优异的均匀性和低缺陷
4、适用于科研项目，实验室小批量生产
应用范围 化合物半导体、功率器件、MEMS、射频集成电路、LED，光学器件、科研项目 衬底材料 Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、InP、SiC、LiTa03、Li3P04 应用领域 Compound semiconductorMOSFET/IGBT Scientific ResearchRF-IC MEMS LED OPTICS 匀胶胶厚均匀性（1-200CP） 片内≤±1%，片间≤±1% 匀胶胶厚均匀性（200-1500CP） 片内≤±2%，片间≤±2% 匀胶胶厚均匀性（1500-7000CP） 片内≤±3%，片间≤±3% 显影线条均匀性（≥1um） 片内≤±1%，片间≤±1% 
