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微翘曲涂胶显影

微翘曲涂胶显影

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1、占地小、稳定性高、操作与维护方便
2、2-12寸晶圆全兼容
3、优异的均匀性和低缺陷.
4、微翘曲晶圆稳定传输
5、微翘曲晶圆加热吸附
6、晶圆位置实时校准
应用范围 化合物半导体、功率器件、MEMS、射频集成电路、LED,光学玻璃
配置 匀胶+显影
衬底材料 Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTa03、Li3P04
适用工艺 g-line、i-line、Pl
晶圆尺寸(mm) 25-300mm
应用领域 Compound semiconductorMOSFET/IGBT Scientific ResearchRF-IC MEMS LED OPTICS
匀胶胶厚均匀性(1-200CP) 片内≤±1%,片间≤±1%
匀胶胶厚均匀性(200-1500CP) 片内≤±2%,片间≤±2%
匀胶胶厚均匀性(1500-7000CP) 片内≤±3%,片间≤±3%
显影线条均匀性(≥1um) 片内≤±1%,片间≤±1%
13898802469
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