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标准型清洗机

标准型清洗机

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1、优异的均匀性和工艺稳定性
2、机台配置灵活可最多搭载四个工艺腔体
3、实时视频监控功能,监控视频可保存6个月
4、适用于12寸及以下晶圆,可上下同时兼容两种晶圆
应用范围 化合物半导体、功率器件、MEMS、先进封装、射频集成电路、MircoLED,光学玻璃
配置 清洗腔
衬底材料 Si、SiC、Sapphire、GaN、GaAs、Glass
适用工艺 Pre/Post clean
晶圆尺寸(mm) 50-300mm
产能 150WPH
应用领域 Compound semiconductor Advanced packaging RF-IC、MEMS、MircoLEDOPTICS Glass、MOSFET/IGBT
可靠性 Uptime≥95% Breakage≤1/10000MTBF≥1000h MTTR≤10h
13898802469
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