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全自动剥离去胶机

全自动剥离去胶机

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1、四手指设计避免污染
2、可搭载先进兆声波、超声波
3、去胶液回收、循环过滤再使用,降低用户成本
4、槽式浸泡与单片高压喷淋方式相结合,提高工艺良率
应用范围 化合物半导体、功率器件、MEMS、先进封装、射频集成电路、MircOLED,光学玻璃
配置 浸泡+去胶+清洗
衬底材料 Si、SiC、Sapphire、 GaN、GaAs、Glass
适用工艺 金属剥离,去胶
晶圆尺寸(mm) 50-300mm
喷嘴 高压柱状喷嘴\高压扇状喷嘴
应用领域 Compound semiconductor Advanced packaging RF-IC、MEMS、MircoLEDOPTICS、MOSFET/IGBT
可靠性 Uptime≥95% Breakage≤1/10000MTBF≥400h MTTR≤4h
13898802469
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