1、占地小、稳定性高、操作与维护方便
2、自主可控的技术方案，自主开发的软件系统，充分满足定制化要求
3、满足8寸及以下晶圆需求，可涂3~20000CP光刻胶
4、控制精度高,Ether CAT 通讯，高精度摆臂及传输机构，实时控制解决方案
应用范围 化合物半导体、功率器件、MEMS、射频集成电路、LED、科研项目、光学器件 衬底材料 Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTa03、Li3P04 应用领域 Compound semiconductorMOSFET/IGBT Scientific ResearchRF-IC MEMS LED OPTICS 匀胶胶厚均匀性（1-200CP） 片内≤±1%，片间≤±1% 匀胶胶厚均匀性（200-1500CP） 片内≤±2%，片间≤+2% 匀胶胶厚均匀性（1500-7000CP） 片内≤±3%，片间≤±3% 显影线条均匀性（≥1um） 片内≤±1%，片间≤±1% 
